Асосий контентга ўтиш
AkademIndex

Маҳсулотлар

Ишлаб чиқувчилар учун

AkademBaseЭкотизим учун очиқ API
← Ишга қайтиш

Ушбу иш иқтибос қилган ишлар

14 та иш

Иш: Study of the profiles of the distribution of atoms of the contacting material over the depth of pure and ion-doped silicon

  1. An ion track based approach to nano- and micro-electronics

    K. Hoppe, W. R. Fahrner, D. Fink +7

    Мақола20089 иқтибос
    ABI
  2. Size effects on the luminescence spectrum in amorphous Si/SiO2 multilayer structures

    Yoshihiko Kanemitsu, Takashi Kushida

    Мақола20004 иқтибос
    ABI