Перейти к основному содержанию
AkademIndex

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseОткрытый API экосистемы
← Назад к работе

Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 35

Работа: Sputtering of GaAs target under Bi+ cluster ions bombardment

  1. Surface ionization of organic compounds and its applications

    У. Х. Расулев, É. Ya. Zandberg

    Статья1988Цитирований: 31
    ABI

  2. Thermal spikes observed during the tantalum sputtering by gold cluster ions

    С. Н. Морозов, У. Х. Расулев

    СтатьяIon-surface interactions and analysisTechnical Physics Letters2003Цитирований: 12
    ABI

  3. The fragmentation of sputtered cluster ions and their contribution to secondary ion mass-spectra

    Н. Х. Джемилев, У. Х. Расулев, С. В. Верхотуров

    Статья1987Цитирований: 12
    ABI

  4. Comparative study of polyatomic secondary ion emission from silicon with <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" altimg="si11.gif" overflow="scroll"><mml:mrow><mml:msubsup><mml:mrow><mml:mtext>Au</mml:mtext></mml:mrow><mml:mrow><mml:mi>m</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mo>-</mml:mo></mml:mrow></mml:msubsup></mml:mrow></mml:math>, <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" altimg="si12.gif" overflow="scroll"><mml:mrow><mml:msubsup><mml:mrow><mml:mtext>Si</mml:mtext></mml:mrow><mml:mrow><mml:mi>m</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mo>-</mml:mo></mml:mrow></mml:msubsup></mml:mrow></mml:math> and <mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" altimg="si13.gif" overflow="scroll"><mml:mrow><mml:msubsup><mml:mrow><mml:mtext>C</mml:mtext></mml:mrow><mml:mrow><mml:mi>m</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mo>-</mml:mo></mml:mrow></mml:msubsup></mml:mrow></mml:math> projectiles

    С. Н. Морозов, У. Х. Расулев

    СтатьяIon-surface interactions and analysisNuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B Beam Interactions with Materials and Atoms2006Цитирований: 11
    ABI

  5. The formation of clusters during ion induced sputtering of metals

    A. Wucher, Michael Wahl

    Статья1996Цитирований: 11
    ABI

  6. Non-additive effects in secondary-ion emission from V, Nb and Ta under gold-cluster bombardment

    С. Н. Морозов, У. Х. Расулев

    СтатьяIon-surface interactions and analysisApplied Surface Science2004Цитирований: 11
    ABI

  7. High non-additive sputtering of silicon as large positive cluster ions under polyatomic ion bombardment

    S.F. Belykh, У. Х. Расулев, A.V. Samartsev +2

    СтатьяIon-surface interactions and analysisVacuum2000Цитирований: 9
    ABI

  8. Impact of slow gold clusters on various solids: nonlinear effects in secondary ion emission

    M. Benguerba, Alain Brunelle, S. Della‐Negra +7

    Статья1991Цитирований: 5
    ABI

  9. The emission of neutral clusters in sputtering

    Hubert Gnaser, Wolfgang Höfer

    Статья1989Цитирований: 5
    ABI

  10. Sputtering of indium using<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:msub><mml:mi mathvariant="normal">Au</mml:mi><mml:mi>m</mml:mi></mml:msub></mml:math>projectiles: Transition from linear cascade to spike regime

    A.V. Samartsev, A. Duvenbeck, A. Wucher

    Статья2005Цитирований: 4
    ABI

  11. Nonadditive sputtering of silicon by keV energy molecular projectiles of heavy and light elements

    S.F. Belykh, A.P. Kovarsky, Vladimir Palitsin +2

    Статья2001Цитирований: 3
    ABI

  12. Model for the emission of quasi-thermal atoms during sputtering of metals in the nonlinear collision cascade regime

    S.F. Belykh, А. Б. Толстогузов, A. A. Lozovan +2

    Статья2014Цитирований: 3
    ABI

  13. Molecular secondary ion formation under cluster bombardment: A fundamental review

    A. Wucher

    Обзорная статья2006Цитирований: 3
    ABI

  14. On the Sputtering of Copper Phthalocyanine Molecules on a GaAs Substrate under Bombardment with Multiply Charged Ions

    Sh.Dj. Akhunov, У. Х. Расулев, Dilshadbek T. Usmanov

    СтатьяIon-surface interactions and analysisJournal of Surface Investigation X-ray Synchrotron and Neutron Techniques2021Цитирований: 3
    ABI

  15. Formation of High-Mass Cluster Ions from Compound Semiconductors Using Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry with Cluster Primary Ions

    Robyn E. Goacher, Hong Luo, Joseph A. Gardella

    Статья2008Цитирований: 2
    ABI

  16. Metal-assisted SIMS and cluster ion bombardment for ion yield enhancement

    Andreas Heile, D. Lipinsky, Nimer Wehbe +8

    Статья2008Цитирований: 2
    ABI

  17. Cluster ion sputtering: molecular ion yield relationships for different cluster primary ions in static SIMS of organic materials

    M. P. Seah

    Статья2007Цитирований: 2
    ABI

  18. Recent Progress in Cluster Beam Technique

    Jiro Matsuo, Makiko Fujii, Toshio Seki +1

    Статья2016Цитирований: 2
    ABI

  19. Secondary ion emission from a GaAs single crystal upon bombardment with Bi+ m cluster ions

    С. Н. Морозов, У. Х. Расулев

    СтатьяIon-surface interactions and analysisBulletin of the Russian Academy of Sciences Physics2016Цитирований: 2
    ABI

  20. Reducing the Matrix Effect in Organic Cluster SIMS Using Dynamic Reactive Ionization

    Hua Tian, A. Wucher, Nicholas Winograd

    Статья2016Цитирований: 2
    ABI

  21. Nonlinear effects in low-energy ion sputtering of solids

    Yuriy Kudriavtsev, R. Asomoza, A. G. Hernández +3

    Статья2020Цитирований: 2
    ABI

  22. Sputtering of silicon by atomic and cluster bismuth ions: An influence of projectile nuclearity and specific kinetic energy on the sputter yield

    A. Tolstogouzov, Paul Mazarov, A.E. Ieshkin +4

    Статья2021Цитирований: 2
    ABI

  23. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1
    ABI

  24. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1
    ABI

  25. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1
    ABI