Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 12

Работа: Formation and Electronic Structure of Barium-Monosilicide- and Barium-Disilicide Films

1. Formation of nanosize silicides films on the Si(111) and Si(100) surfaces by low-energy ion implantation

   А.С. Рысбаев, Zh. B. Khuzhaniyazov, A.M. Rakhimov +1

   СтатьяSemiconductor materials and interfacesTechnical Physics2014Цитирований: 15

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213638

2. Electronic structure of Ga1–x Al x As nanostructures grown on the GaAs surface by ion implantation

   S. B. Donaev, Б. Е. Умирзаков, Д. А. Ташмухамедова

   СтатьяIon-surface interactions and analysisTechnical Physics2015Цитирований: 13

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.095299

3. Electron microscopy characterization of higher manganese silicide film structure on silicon

   Andrey Orekhov, T. S. Kamilov, Anton S. Orekhov +3

   СтатьяSemiconductor materials and interfacesNanotechnologies in Russia2016Цитирований: 7

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.079735

4. Surface Science

   Kenjiro Oura, Michiko Katayama, А. В. Зотов +2

   Книга2003Цитирований: 5

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.144464

5. Implantation of sodium ions into germanium

   V.M. Korol, Yu. Kudriavtsev

   Статья2012Цитирований: 3

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213637

6. Keimbildung in übersättigten Gebilden

   Marcel Volmer, Adam Weber

   Статья1926Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213639

7. Change of electrophysical properties of the Si(111) and Si(100) surface in the process of ion implantation and next annealing

   А.С. Рысбаев, I. R. Bekpulatov, Б.Д. Игамов +1

   СтатьяSemiconductor materials and interfacesEurasian journal of physics and functional materials2019Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213640

8. Obtaining nanoscale CoSiO/Si/CoSi₂ systems for increasing the range of light ray absorption energy

   S. B. Donaev, Б. Е. Умирзаков, D U Sobirova +2

   СтатьяSilicon Nanostructures and PhotoluminescenceIOP Conference Series Earth and Environmental Science2020Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213642

9. Structure of МеSi Silicide Films (Me: Li, Rb, K and Cs) According to Electron Microscopy Data and the Diffraction of Slow Electrons

   M.T. Normuradov, A. S. Risbaev, J. B. Khujaniyozov +1

   СтатьяSemiconductor materials and interfacesJournal of Surface Investigation X-ray Synchrotron and Neutron Techniques2020Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213643

10. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213636

11. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213641

12. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.213644